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ガラス ハード ディスクの基質のポーランド語のための希土類Ceriaの粉0.7-1.1um

ガラス ハード ディスクの基質のポーランド語のための希土類Ceriaの粉0.7-1.1um

Rare Earth Ceria Powder 0.7-1.1um For Glass Hard Disk Substrate Polishing
Rare Earth Ceria Powder 0.7-1.1um For Glass Hard Disk Substrate Polishing Rare Earth Ceria Powder 0.7-1.1um For Glass Hard Disk Substrate Polishing Rare Earth Ceria Powder 0.7-1.1um For Glass Hard Disk Substrate Polishing

大画像 :  ガラス ハード ディスクの基質のポーランド語のための希土類Ceriaの粉0.7-1.1um ベストプライス

商品の詳細:

起源の場所: 蘇州、中国
ブランド名: KP
モデル番号: KP2001

お支払配送条件:

最小注文数量: 交渉可能
価格: Negotiable
パッケージの詳細: カートン梱包、1箱あたり20 kg
受渡し時間: 3-5の仕事日
支払条件: L/C、T/T、D/P
供給の能力: 1週間あたり5000 kg
詳細製品概要
製品名: 希土類磨く粉 タイプ: KP2001
色: 茶色がかった赤 形態:
主要な原料: セリウムの酸化物 D50: 0.7-1.1um
REOの内容: >90% LOI: <2>
磨く広範囲の特性: よい アプリケーション領域: 精密光学ガラス、ハード ディスク ガラス、フォトマスク、LCD、等の高性能の精密磨くこと
ハイライト:

ceo2粉

,

セリウムの酸化物ガラスの磨く粉

希土類ポーランド語はガラス ハード ディスクの基質のポーランド語のためのKP2001 0.7-1.1umを粉にする

 

名前: 希土類磨く粉、セリウムの酸化物の磨く粉                  タイプ:KP2001

 

D500.7-1.1um                                                            TREO: ≥90%

 

記述: 主要なコンポーネントとしてセリウムの酸化物が付いている混合された軽い希土類酸化物を示す希土類磨く粉はプロダクトの表面の終わりを改善するために、使用される。通常、過フッ化炭化水素のceria (Re2O3≥70%を含んでいる)または希土類塩は(CeO2>80%を含んでいるCeO2/Re2O3= 45~50%の希土類塩化物かセリウムが豊富な希土類混合物含んでいる)原料として使用される。それは化学に処理、焼却、押しつぶすことおよびふるうことによってなされる。 多くの磨く材料の間で、セリウムは最もよい磨く材料として希土類磨く粉を知られている基づかせていた。

 

指定:

物理的な、化学特性 KP2001
化学成分 総希土類TREO % ≥90
CeO2/TREO % ≥55
F % ≤5
LOI % ≤2
物理的な性能の索引 D50 um 0.7-1.1
D90 um ≤5.6
pH 6-8
茶色がかった赤
パッケージ カートンのパッキング、20kg/カートン
アプリケーション領域 精密光学ガラス、ハード ディスク ガラス、フォトマスク、LCD、等の高性能の精密磨くこと

 

パッキング:包まれる20kgカートンまた提供された小型パッケージ:1kg、5kg等。

 

使用:ITOガラス、ガラス ハード ディスクの基質、光学ガラスのTFT-LCDモジュールののために主に使用されて薄くなること、TFT-LCDカバー ガラス、STNおよび良い磨くこと。

連絡先の詳細
Suzhou KP Chemical Co., Ltd.

コンタクトパーソン: Miss. Wang wendy

電話番号: 86-18915544907

ファックス: 86-512-62860309

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