稀土フッ素の最も一般的な用途は,カルシウム熱還元と溶けた塩電解による稀土金属および合金製成の原材料である.例えば,ランタン製の過程で溶けた塩の電解によるセリウム,プラセオジウム-ネオジウム,ディスプロシウム-鉄合金,ランタンフッ化物,セリウムフッ化物プラセオジム・ネオジム・フッ化物とディスプロシウム・フッ化物は溶けた塩の重要な成分である.中型および重型稀土金属であるイトリウム,テリウムおよびディスプロシウムをカルシウム熱還元により,イトリウムフッ化物,テリビウム・フッ化水素と ディスプロシウム・フッ化水素は不可欠な原材料の1つです.

さらに,稀土フッ素は,フッ素光ファイバー,赤外線反射フィルム材料,発光材料,潤滑剤などの新しい材料に広く使用されています.独特の光学光学により高性能レーザー光ファイバー,レーザー結晶,光学コーティングなどで超高純度稀土フッ化物への緊急の需要を考慮し,超高純度稀土フッ素の製剤のための新しい方法の開発は,現在や今後数年間で無視できない重要な方向です.

現在,稀土フッ素の調製プロセスは主に湿気フッ素化プロセスと乾燥フッ素化プロセスで2種類に分かれています.前者は主に稀土炭酸塩を使用します.塩化物稀土フッ化物を得るために原材料として水素酸やアモニウムフッ化物を使用する.その利点はシンプルな設備と低コストである.しかし,得られた製品の不浄成分は高く,フィルタリングは困難です.稀土酸化物や炭酸塩,水素フッ化物ガス,または二酸化アモニウムを原材料として使用する.水素フッ化ガスの方法によって得られた製品は高品質である.しかし反応温度は高く,ガス漏洩の危険があり,過剰な水素フッ化物排気ガスに対処することは困難です.必要な反応温度は低いため,アモニアム・バイフローライド法では比較的低い危険因子があります.しかし,製品内の残留アンモニアフッ素は,後の使用に影響を与え,アンモニアフッ素をリサイクルして再利用することは困難です.

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